導語

在微納加工、半導體光刻、醫療激光等高精度領域，光學元件的耐損傷性和高反射率直接決定產品的產能與成本。Acton光學推出的 e?Design（高能量密度?低重復率）與XL?Design（低能量密度?高重復率）雙系列激光鏡面，憑借創新的層間電場強度（EFI）分布技術，顯著提升激光耐受性，提供96?98% 的超高反射率，已成為業界標配。本文將為您拆解這些技術亮點，幫助您快速匹配合適的光學方案。

一、核心技術亮點

1. e?Design —— 高能量密度?低重復率的防護拉滿

• 適用頻率：≈200 Hz

• 核心原理：通過在多層結構中分散EFI峰值，降低單層電場強度，顯著抑制EFI引發的損傷。

• 效果：激光損傷閾值提升，涂層壽命延長，在193 nm波段實現 ≥98% 反射率（M193?FRe?系列）。

2.XL?Design —— 低能量密度?高重復率的穩定輸出

• 適用頻率：4?5 kHz

• 核心原理：混合結構 + 平衡應力 設計，抑制微缺陷導致的災難性破壞，防止高重復率下的脫水效應。

• 效果：在較高重復率條件下仍保持 ≥96% 反射率（M193?FRXL?系列），并通過MIL?SPEC 附著力、耐磨、耐濕 測試。

3.全波段覆蓋，單元化產品編號一鍵匹配

• 波長范圍：126 nm ~ 353 nm（包括VUV、UV、深紫外）。

• 典型反射率：

126 nm ≥ 55%

157 nm ≥ 89%

193 nm e?Design ≥ 98% / XL?Design ≥ 96%

353 nm ≥ 99%

• 標準尺寸：1″、2″ 直徑，多種厚度可選，兼容 Acton 標準基底 / 定制基底 / 客戶自供材料。

4.高性能分束器 & 衰減片

• 多層介電低吸收涂層，適用于 10%?90% 不同透射比例。

• 支持 隨機偏振 / P偏振 / S偏振 定制，滿足 醫學、半導體、微加工 多場景需求。

5.超寬帶 Al+MgF2 鍍膜（120?190 nm）

•  ≥78%（120 nm） 、≥87%（190 nm） 的寬帶反射率。

• 適用于 VUV光譜儀、Ellipsometry、空間應用 等高靈敏度儀器。

二、為何選擇 Acton光學？

【強烈推薦】若您仍在為激光鏡面壽命短、反射率不足而煩惱，Acton Optics 的涂層技術是提升產線效率、降低維護成本的優秀方案。

三、產品選型快速指南

1.確定激光波長 & 重復率

• 193 nm & ≈200 Hz → 選 e?Design（M193?FRe?系列）

• 193 nm & 4?5 kHz → 選 XL?Design（M193?FRXL?系列）

2.選擇基底尺寸

• 1″ 適用于小孔徑系統

• 2″ 適合大口徑高功率激光

3.確認需求的反射率或透射比例

• 高反射需求 → 選對應波段的 FR/FR45 系列。

• 分束/衰減需求 → 參考 P10?P90 系列分束器編號（如 M193?P5045?1D?MB）。

4.特殊環境（如真空、潮濕）

• 需防潮、耐磨 → 選 MIL?SPEC 通過 的 XL?Design。

【操作提示】在下單前，請提供激光波長、工作角度（0°/45°）、基底材料（如 Fused Silica、CaF2）與尺寸要求，我們的工程師將為您完成一鍵匹配。

四、真實案例分享

案例一：半導體光刻廠

• 痛點：193 nm 高功率激光導致鏡面頻繁更換，產能下降 15%。

• 方案：采用 Acton e?Design（M193?FRe?1D?MB）鏡面，配合定制 45° 入射角。

• 結果：鏡面壽命提升 3 倍，反射率保持在 98% 以上，整體產能恢復 12% 以上。

案例二：生物醫學微加工

• 痛點：10%?90% 可變衰減需求頻繁更換分束器，導致工藝不穩定。

• 方案：使用 Acton 可定制 P?系列分束器（如 M157?P5045?2D?MB），實現 P偏振 優化。

• 結果：功率調節響應時間 < 5 ms，工藝重復性提升 30%。